简体中文
一般的なコーティングプロセス: 1. PVD (物理的気象堆積) プロセス: 2. CVD (化学コーティング)
1. PVD (物理的気象降水) プロセス: 真空条件下での物理的方法の使用を指し、材料ソースの表面を気体原子、分子、またはイオンへの部分イオン化にガス化し、低圧ガス (またはプラズマ) のプロセスを通じて、基板上。特殊な機能を持つ薄膜を表面に蒸着する技術。物理蒸着の主な方法は、真空蒸着、スパッタリング コーティング、アーク プラズマ コーティング、イオン コーティング、および分子線エピタキシーです。
これまで、物理蒸着技術は、金属膜、合金膜だけでなく、化合物、セラミック、半導体、ポリマー膜なども堆積できます。ディスプレイパネルに使用されるインジウムスズターゲットITOは、主に真空コーティングを採用しています。
2. CVD（Chemical Coating Process）技術：薄膜素子を構成するガス状反応物または液体反応物を含む蒸気と、反応に必要なその他のガスを高温で化学反応させて変換する技術。
高品質のステンレス鋼304、二重層冷却水設計のフルマシンボディ。
新しく開発されたイオン アーク ソースのいくつかのセットは、アーク ソース スパッタリングの安定性と均一性を効果的に確保するために合理的に装備されています。
マルチチャンネルエアインテークシステムを採用し、ガスの流れを正確にコントロールして、さまざまな複合フィルムの要件を満たすことができます。
パルスバイアス技術と組み合わせることで、電気粒子エネルギーが大幅に向上し、優れた膜密着性と仕上がりが得られます。
機器は主に、ハードウェア製品、ガラス工芸品、バスルーム製品、時計、時計、ナイフ、金型、クリスタルガラス、ゴルフツール、ランプ、メガネフレーム、セラミックタイル、床タイルなどのセラミック工芸品に広く使用されています。
加工材料：ステンレス、銅、鉄、亜鉛合金、アルミ、ABS、ガラス、セラミックスなど
処理材料の表面状態：通常の電気めっきの明るい表面、ダムの表面（セミダム、フルダム）、プロセスの電気めっきのしわ、ブラシ、雨滴など。
メッキ色は、半透明、ゴールド、シルバー、ローズゴールド、ブラック、グリーン、ブルー、パープル、レインボー、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3 など
+86-574-62340101
