蒸発真空コーティング機と物理原理の紹介- Ningbo Honyu Vacuum Technology Co., Ltd.

蒸発真空コーティング機と物理原理の紹介

蒸発真空コーティング機は、主に真空チャンバーと真空ポンプシステムで構成されています。真空チャンバーは、蒸発源（すなわち、蒸発ヒーター）、基板および基板ホルダー、基板ヒーター、電源、蒸発ボート、および電極棒を含む。真空システムには、機械式ポンプ、ルーツポンプ、拡散ポンプ、または分子ポンプを含む、ラフポンプ、中間ポンプ、ファインポンプなどが含まれます。

コーティング材料は、真空チャンバー内の蒸発源に配置されます。高真空条件下では、蒸発源を加熱して蒸発させます。蒸気分子の平均自由行程が真空チャンバーの線形サイズよりも大きい場合、フィルム蒸気の原子と分子は蒸発源から蒸発します。ソース表面が脱出した後、他の分子や原子によって衝突および妨害されることはめったになく、めっきされる基板の表面に直接到達する可能性があります。基板の温度が低いため、フィルム材料の蒸気粒子が基板上に凝縮してフィルムを形成します。

蒸発した分子と基板との間の接着を改善するために、基板は、適切な加熱またはイオン洗浄によって活性化することができる。材料の蒸発、輸送から堆積、膜形成までの真空蒸着コーティングの物理的プロセスは次のとおりです。

（1）さまざまな方法を使用して、他の形式のエネルギーを熱エネルギーに変換し、フィルム材料を加熱して蒸発または昇華させ、特定のエネルギー（0.1〜0.3eV）のガス状粒子（原子、分子、または原子グループ）にします。

（2）ガス状粒子は膜材料の表面を離れ、衝突することなくかなりの移動速度で直線的に基板の表面に輸送されます。

（3）基板の表面に到達したガス状粒子は、凝縮して核形成し、固体膜に成長します。

（4）薄膜を構成する原子が再配列または化学結合している。

毎日の真空コーティング機は、蒸発技術を使用して、アルミニウム、フッ化マグネシウム、金、銀などをコーティングします。これは、融点が低く、急速な蒸発と昇華に便利であるという利点があるためです。